更新時(shí)間: 2023-09-21
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硅溶膠拋光液：由于拋光液的選擇要滿(mǎn)足易清洗、拋光均勻性好、拋光速度快的特點(diǎn)，而且硅溶膠作為一種軟性磨料，在二氧化硅磨粒表面包覆一層無(wú)色透明的膠體，使其硬度比二氧化硅磨粒軟，粒度約為0.01-0.1um，使拋光面在加工過(guò)程中不易被劃傷。同時(shí)，其膠體粒徑為納米，具有較大的比表面積。由于其高滲透性和分散性，其顆粒表面常吸附OH-并帶負(fù)電荷，具有良好的疏水性和親水性，因此廣泛用于二氧化硅、硅片、藍(lán)寶石等光學(xué)器件表面的拋光。由于二氧化硅的粒度很細(xì)，約為0.01-0.1m，拋光后工件表面的損傷層小。此外，二氧化硅的硬度與硅晶片的硬度相似，因此經(jīng)常用于拋光半導(dǎo)體晶片。在拋光時(shí)，我們通常不使用氣相法制備的微米級(jí)二氧化硅顆粒，而是使用納米二氧化硅溶膠來(lái)降低表面粗糙度和損傷層的深度。二氧化硅是硅溶膠拋光液的重要組成部分，其粒徑、密度、分散性等因素直接影響化學(xué)機(jī)械拋光的速率和質(zhì)量。
